橘井二

刻蚀工艺简介刻蚀作为关键步骤，在半导体制造中扮演着不可或缺的一环。在硅片表面形成光刻胶图形后，刻蚀工艺将该图形转移到光刻胶下面的层。常见的刻蚀方法有物理性刻蚀、化学性刻蚀。而化学刻蚀由于其具备高均匀性...